Thermo Scientific™ Apreo ChemiSEM™ 場發射電 鏡是高性能與高質量成像的不二之選。它集成了 元素成分與結構分析于一體的自動工作流程，讓不同經驗的用戶都能輕松獲得高質量數據。

     Apreo ChemiSEM為大型研究機構和工業客戶提供適用于各種樣品 與不同經驗水平用戶的完全集成的分析技術與完整的分析結果。 對于有多個使用用戶和多種樣品類型的多功能實驗室來說，該系統的全新智能幀積分 (SFI)、自動對焦和自動消像散功能可自動優化圖像采集參數并采集數據，無需手動調節。該系統始終保持ZUI優狀態，可隨時進行成像，讓用戶有更多時間專注于獲取所需的數據。

     采用 ChemiPhase 對鋼材中的復合夾雜物進行相分析。ChemiPhase 可有效鑒定各種夾雜物，獲取各種夾雜物的成分和面積分數，還能輕松探測出意想不到的相，通過一次分析即可提取完整的信息。

主要特點

高分辨率成像性能：Thermo Scientific™  Trinity™  探測檢測系統及自動化 技術可簡化各種應用中的數據采集工作

先進的優化分析解決方案：TrueSightPro  EDS探檢測器、ChemiSEM技術和 TruePix EBSD 探檢測器可對樣品進行完整全面表征

綜合工作流程：兼容MAPS 軟件、自定義腳本和 CleanConnect™， 兼 容性讓用戶可您能夠全面完全控制分析流程

     Apreo ChemiSEM 系統集成了三項有助于簡化操作并確保結果可靠性的先進功能：Thermo Scientic ™ ChemiSEM ™ 技術、新型TruePix 背散射電子衍射儀 (EBSD) 以及獨特的 Thermo Scientic ™Trinity ™ 鏡筒內探測系統。

     ChemiSEM 技術利用全自動實時定量算法呈現僅通過成像無法注 意到的特征，為樣品提供更完整的信息。該功能隨時運行且易于 使用，可更快提供結果，有助于消除用戶偏差。

     TruePix EBSD 探測器與 Apreo ChemiSEM 系統配合使用，可擴大 應用范圍。全新的 EBSD 軟件可用于控制該探測器，引導用戶完 成參數設置、數據采集以及數據處理。

     Trinity 鏡筒內探測系統可實現高質量的形貌、極表面和成分信息 的同步采集，而無需使用 ETD 或 BSD 探測器。

     其具有獨特的信號過濾選項，1 kV 電壓下不加電子束減速即可得到 0.9 nm 的ZUI高分辨率。

     Apreo ChemiSEM 系統將高分辨率成像、元素分析和結構分析相 結合，為用戶提供分析各類型材料的強大工具。

電子光學

•     高分辨率場發射 SEM 鏡筒具有以下特點：

–   高穩定肖特基場發射槍，提供穩定的高分辨分析束流

–   復合末級透鏡，組合靜電透鏡、無漏磁透鏡和浸沒式磁透鏡（選配）

–   60° 物鏡幾何結構，允許較大樣品傾斜

–  自加熱光闌確保清潔度，無接觸式光闌切換

• SmartAlign 技術：無需用戶對中

• 低真空模式（選配）下通過透鏡差分抽真空減小裙散效應， 實現準確分析和ZUI高分辨率成像

•  電子束減速功能，樣品臺偏壓范圍為 -4,000 V 至 +600 V

• 束流連續變化，孔徑角ZUI優化

• 雙樣品臺掃描偏轉

• 電子槍安裝和維護簡單：自動烘烤、自動啟動、無需機械對準

• PivotBeam 模式，用于選區電子通道襯度成像，也稱為“搖 擺電子束”模式（僅限于 Apreo ChemiSEM S 型）

•  ZUI短燈絲壽命：36 個月

ChemiSEM 技術

• TrueSight；探測器尺寸：25 或 70 mm²

• 能量分辨率高達 125 eV @ Mn Κα?

• 元素探測范圍為 Be-Am

• 輕元素靈敏度可探測至硅 (Si Lα)

SEM-EDS 功能完全集成于單一用戶界面中

• 基于項目的數據存儲

• 項目數據樹，方便輕松管理數據

• 行業標準數據格式

• 專用分析模式，實現點、線和面掃描模式之間的無縫融合

• 在 xT SEM 用戶界面中選擇可用的電子圖像類型

• 一鍵生成報告

• 和峰和逃逸峰去除

• 自動譜峰識別

• 合成峰與背底疊加

• 在大范圍工作距離、束流和電子束能量范圍內進行準確定量

• 用戶可定義選擇包含、排除或定量缺失某元素

• 自動或用戶自定義選擇 KLM 線系進行定量分析

• 通過數字濾波法去除背底

• 通過ZUI小二乘濾波法擬合進行無標樣定量分析

• 使用 PROZA 基體校正法，實現優異的輕元素定量

• 定性和定量線掃描，可按時長或計數停止測試

• ChemiSEM 技術，結合電子圖像算法實現快速面定量

• 定量面掃描始終開啟，提供譜峰剝離的定量面掃描

• 計數面掃描，支持單元素線系選擇

• 過 square kernelization 進行定量面掃描（選配）

• 將多個面掃描圖像疊加到電子圖像上

• 用戶自定義或自動選擇元素顏色

• 通過導航蒙太奇采集和拼接多個視場

• 兼容 MAPS 軟件，實現多視場的自動拼接

• 使用點和矩形框進行譜圖提取

• 通過靈活選擇線方向、寬度和點數，從 X 射線面掃描圖像中提 取線掃描數據

• 多譜圖歸一化對比

• 基于 DCFI 進行面掃描的漂移校正

• 采用化學計量法對硼化物、碳化物、氧化物和氮化物進行化合 物分析

• ChemiPhase 通過多元統計分析法進行實時或離線相鑒定

• ChemiView 實現不同數據類型的離線再處理和報告生成

TruePix  EBSD 探測器

• 混合像素化直接電子 EBSD 探測器

• 單一探測器，由單個基于 Timepix 的模塊組成

• 零讀取噪聲、高信號背底比

• 零畸變

• 單顆粒計數

• 能量閾值化

• 2000 FPS 幀讀取率

• 一分鐘內完成探測器插入、校準、花樣優化和面掃描自動設置

EBSD 采集和數據處理軟件

• 全面集成在線采集和離線數據處理系統

• 自動花樣優化：系統從待采集區域隨機點采集 >20 個EBSP，實現優質的背底校準

• ZUI大曝光量測定：系統確定信號飽和前的ZUI大曝光量，當曝光時間超過ZUI大曝光量進行自動幀積分

• 自動平場校正和襯度增強（另外提供校準程序）

• 針對不同探測器位置、工作距離和樣品傾斜角度自動進行花 樣中心校準

• 可疊加任意類型的圖像

• 晶粒尺寸直方圖

• 噪聲去除和像素增強

• 用戶自定義模板化報告

• 標定所有的七類晶系和 11 種勞厄群

• 多相同時標定

• 快速傅里葉變換和花樣襯度質量指標

• 低 SEM 放大倍率花樣中心校正

• EBSP 的ZUI佳擬合運動學模擬與疊加

• 歐拉圖、X/Y/Z 反極圖（軋向、法向、橫向）、歐拉取向圖、 相圖和取向差面掃描

真空系統

• 完全無油的真空系統

• 1 × 240 l/s 渦輪分子泵

• 1 × PVP 渦旋泵

• 2 × IGP

• 樣品倉真空度（高真空）<6.3×10-6 mbar（泵工作 12 小時后）

• 抽真空時間：≤ 3.5 分鐘

• 低真空模式（腔室壓力為 10-500 Pa）（選配）

• 限壓光闌 (PLA) 自動加載裝置

樣品臺

•  標準多功能樣品座，可直接安裝在樣品臺上，可容納多達18 個標準樣品托（直徑為 12 mm）、三個預傾斜樣品托、 截面樣品托和兩個預傾斜 STEM 樣載條（選配）（38 ° 和 90°）；安裝樣品無需使用工具

• 每個選配 STEM 載條可容納六個 STEM 載網

• 晶圓及定制樣品臺（選配）

電子束分辨率

BD：電子束減速模式，WD：工作距離（除非另有說明，否則按ZUI佳工作距離提供分辨率）。默認情況下，ZUI終安裝后系統驗收測試條件為：高真空 1 kV 和 30 kV 條件 ，開 啟浸沒模式（如適用）。

電子束參數范圍

電子束參數范圍：1 pA 至 50 nA（可選配 400 nA ）

• 加速電壓范圍：200 V - 30 kV

• 著陸能量范圍：20 eV - 30 keV

• ZUI大水平視場寬度：10 mm WD 時為 3 mm（ZUI小放大倍率： 29x ）

樣品倉

• 內寬：340 mm

• 分析工作距離：10 mm

• 端口：12

通過電子束減速 (BD) 對氧化鎂顆粒進行低 kV 表征 (500 V)。BD 可改進形貌細節并 減少荷電效應。

探測器

Apreo ChemiSEM 可任意組合不同探測器或探測器的分區（選配）， 可同時探測多達四種信號：

• Trinity 探測系統（物鏡內和鏡筒內）

–   T1 分割式物鏡內低位探測器

–   T2 物鏡內中位探測器

–   T3 鏡筒內高位檢測器（選配）

• TD：Everhart-Thornley 二次電子探測器

• DBS：可伸縮分區式極靴下 背散射電子探測器（選配）

• 低真空二次電子探測器（選配）

• DBS-GAD：安裝在物鏡上的氣氛分析背散射電子探測器（選配）

• STEM 3+ 可伸縮分區式探測器 (BF、DF、HADF、HAADF）（選配）

• 紅外 CCD

• hermo Scientifc™  Nav-Cam™  導航相機（樣品倉內）